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主要用在半导体工业上,它是制备化合物半导体晶体和外延片的关键基础材料,可以形成锑化铟、锑化镓、锑化铝等半导体化合物。可以作为半导体硅、锗等的掺杂剂,使其形成N型半导体;也可用在溅射靶面材料上,如大规模集成电路溅射材料。
关键词: 重要腐蚀性金属元素阻燃剂陶瓷领域